深圳“中國芯”傳來好消息，突破關鍵技術，打破獵頭公司日企壟斷，“國內擁有一大批優秀的半導體企業，之所以無法獨自實現高端芯片的量產，主要是因為光刻機和光刻膠等被卡了脖子”。任正非曾在與C9高校校長交流時一針見血地指出了國產芯片的短板。

不少關注半導體的朋友都知道，光刻機是芯片制造的核心設備，掌握先進制程工藝的中芯國際等國內芯片制造企業，因EUV光刻機遲遲無法到貨，導致在老美“芯片禁令”落地的時候，華為等部分中企因為芯片短缺而不得不調整企業發展戰略。

可不少朋友不知道的是，中芯國際等國內芯片代工企業制造芯片所需的化學材料光刻膠也是受制于人。

光刻膠是芯片制造過程中的必要化學材料，晶圓上涂抹光刻膠，不但能夠很好地保護襯底基座，還能夠有效的提升光刻機曝光顯影的效果。可以說，沒有了光刻膠的支撐，光刻機就很難將集成電路圖有效地投影在晶圓上，下面的蝕刻、等離子注入、封測等程序也就無從談起。

然而，光刻膠這種制造芯片的關鍵化學材料，卻長期被日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）等日企壟斷，市場份額高達85％。隨著中企不斷加大科研投入，日企壟斷的地位被打破了。

近日，據媒體報道的信息顯示，國內半導體巨頭南大光電正式對外宣布，突破光刻機關鍵技術，自主研發的ArF光刻膠正在向多家下游主要客戶穩步推進，可用于55nm、14nm等制程芯片的生產。

ArF光刻膠若想被下游芯片制造企業認可，就必須根據客戶端的工藝參數進行大量適配調校，技術難度高，工作量大，不少光刻膠企業很難做到這一步，而南大光電卻能夠做到穩步推進，可見其技術已經達到了世界一流水平。

南大光電打破日企壟斷光刻膠行業的消息一經傳出，瞬間引起了科技界的廣泛關注與討論，多家美媒先后發文表示：“中國芯”距離打破美芯封鎖的日子又近了一步，用不了多久，美芯就有會被中企“拋棄”，屆時，美半導體企業將會遭受巨大的經濟損失，甚至有可能喪失行業話語權！

美媒的這個觀點并不是在吹捧“中國芯”，更不是為老美再次打壓“中國芯”找借口，因為“中國芯”真的快要站起來了！

老美修改半導行業規則打壓華為等中企的時候，國內芯片制造企業僅能制造出28nm純國產芯片，而現在，經過兩年的發展，我們已經實現了14nm純國產芯片的生產，且突破了大量“卡脖子”技術。

倪光南院士曾表示，28nm、14nm等成熟制程工藝芯片完全可以滿足物聯網、人工智能、5G、新能源汽車等行業的發展，中國人有足夠的時間發展高端“中國芯”，徹底解決芯片被卡脖子的問題。

芯片被譽為現代工業的“糧食”，是全人類智慧的結晶，僅憑一個國家的力量很難造出來，但總歸還是人造的，而不是神造的，中國人完全可以憑借自己的智慧和血汗造出來，徹底打破老美的技術封鎖，推動我國科技的崛起！